IT之家7月28日消息 苏大维格科技官方宣布,大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000下线并投入工业运行。iGrapher3000 主要用于大基板上的微纳结构形貌的 3D 光刻,是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台,堪称为光电子产业基石性装备,为产业合作创造新机遇。从集成电路图形的平面光刻,迈向光电子的 “微结构形貌”的 3D 光刻,iGrapher3000 为新颖材料和功能光电子器件提供了先进手段,下图为 iGrapher3000 紫外 3D 光刻装备(110 吋幅面,2500mmx1500mm)照片和微纳结构形貌 SEM 照片。此次安装在维业达科技有限公司黄光车间的 iGrapher3000,首个工业应用项目是大尺寸透明导电膜的深槽结构微电路模具,并将用于大面积平板成像、柔性导电器件和全息显示与 3D 显示研发和产业化应用。面向大面积新颖材料与功能器件的需求,大型紫外 3D 光刻系统
全球首台!苏大维格大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000 投入运行
2020-07-28 10:51:56来源: IT之家
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