韩媒：韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得重大进展

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IT之家 11 月 16 日消息 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道，韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。但并没有提到是哪一家企业，合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。▲ 图源 BusinessKoreaEUV 光刻技术是多种先进技术的复合体，例如多层反射镜，多层掩模，防护膜，光源和注册表（registries）。在过去的十年中，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，以确保技术处于领先地位。最近，代工公司（意指三星）开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的应用处理器（AP）。按公司划分，全球六大公司的专利申请数占了总数的 59%，卡尔蔡司（德国）占 18%，三星电子（韩国）占 15%，ASML（荷兰）占 11%，S&S Tech（韩国）占 8%。），台积电（台湾）为 6%，SK 海力士（韩国）为 1%。从具体的技术项目来看，曝光装置技术申请专利占 31%，