荷兰 ASML 全球副总裁：对向中国出口光刻机保持开放态度

图片地址：https://img.ithome.com/newsuploadfiles/2020/11/20201105_161120_328.png

IT之家11月6日消息 据澎湃新闻今日报道，在第三届中国国际进口博览会上，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）全球副总裁、中国区总裁沈波表示，该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度，对全球客户均一视同仁，在法律法规框架下，都将全力支持。IT之家昨日报道，ASML 在第三届中国国际进口博览会上展示了先进的 DUV 光刻机。据了解，该产品可生产 7nm 及以上制程芯片。DUV ：深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV ：极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。从制程范围来看，DUV 基本上只能做到 25nm，Intel 凭借双工作台的模式做到了 10nm，但是却无法达到 10nm 以下。只有 EUV 能满足 10nm 以下的晶圆制造，并且还可以向 5nm、3nm 继续延伸。此外，ASML 在本次展会上也带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光