三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机

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IT之家 8 月 16 日消息，首尔经济日报昨日（8 月 15 日）报道，三星将于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期间，安装首台来自 ASML 的 High-NA EUV 光刻机，并预估 2025 年年中投入使用。报道称三星将在其华城园区内安装首台 ASML Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机，主要用于研发目的，开发用于逻辑和 DRAM 的下一代制造技术。三星计划围绕高 High-NA EUV 技术开发一个强大的生态系统：除了收购高 NA EUV 光刻设备外，三星还与日本 Lasertec 公司合作开发专门用于 High-NA 光掩膜的检测设备。IT之家援引 DigiTimes 报道，三星已经购买了 Lasertec 的 High-NA EUV 掩膜检测工具 Actis A300。三星电子半导体研究所的 Min Cheol-ki 博士在 2024 年光刻与图案化研讨会上表示：“与传统