总投资50亿元，浙江绍兴官宣国产芯片光刻机工厂2025年投产｜硅基世界

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光刻过程（图片来源：ASML）钛媒体App 6月25日消息，浙江省绍兴市越城区融媒体中心官方账号“越城发布”24日公布一篇题为《国产光刻机工厂落户越城》的文章，介绍了总投资约50亿元人民币的上海图双精密装备项目落户绍兴市越城区的消息。越城区融媒体中心称，该项目计划分两期实施：一期计划投资约5亿元，一期占地面积35亩，用于转移及扩大公司目前在上海的产能；二期计划投资约45亿元。两期将实现年产50-100台半导体设备的目标。项目正在建设中，预计2025年投产。这是近年来，国内地方机构官方层面罕见披露的光刻机设备相关消息。据悉，光刻机（Mask Aligner)，又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。光刻工艺是将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形成需要的图形。实际上，芯片的制造流程极其复杂，而光刻工艺是