英特尔包圆 ASML 初始产能，获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机

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IT之家 5 月 8 日消息，英特尔近日宣布完成世界首台商用高数值孔径（High NA）EUV 光刻机的安装，而这台耗资约 3.5 亿美元（IT之家备注：当前约 25.23 亿元人民币）的庞然大物将于年内正式启用。TheElec 表示，ASML 截至明年上半年绝大部分高数值孔径 EUV 设备的订单已经由英特尔承包，包括今年计划生产的五套设备将全部运给这家美国芯片制造商。消息人士称，由于 ASML 的高数值孔径 EUV 设备产能每年约为 5 到 6 台，这意味着英特尔将获得所有初始库存，而英特尔的竞争对手三星和 SK 海力士预计将在明年下半年才能获得该设备。▲ 图源：ASML对于高数值孔径，IT之家这里简单解释一下。光刻设备中的 NA 代表数值孔径，表示光学系统收集和聚光的能力。数值越高，聚光的能力就越强。相比于当前 EUV 设备的 0.33 数值孔径，新一代 EUV 设备的 NA 值直接增加到了 0.55，拥有 1.7