ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单，预计到 2028 年可将年产…

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IT之家 2 月 13 日消息，荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机，还透露其 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 3.5 亿欧元（IT之家备注：当前约 27.16 亿元人民币）。相比之下，现有的 EUV 光刻机价格约为 1.7 亿欧元（当前约 13.19 亿元人民币），当然具体价格要取决于具体型号和配置。此外，ASML 还告诉路透社，该公司截至目前已收到包括英特尔和 SK 海力士在内数家公司的“10 到 20”个订单，并计划到 2028 年每年生产 20 台。ASML 的 High-NA Twinscan EXE 光刻机代表了该公司技术的巅峰，每台设备重达 150,000 公斤，相当于两架空客 A320 客机，需要 250 个集装箱运输，运到客户手里后还要再由 250 名工程师花费六个月的时间组装。即将推出的 Hig