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英特尔 CEO 亲自站台:Intel 18A 优势略高于台积电 N2 工艺

2023-12-21 16:05:36来源: IT之家

IT之家 12 月 21 日消息,英特尔首席执行官帕特・基辛格(Pat Gelsinger)近日在接受采访时表示,英特尔的 18A 工艺和台积电的 N2 工艺不相上下。不过基辛格表示,在背面供电(backside power delivery)方面,英特尔更胜一筹,也得到了客户的广泛认可。基辛格表示英特尔在背面供电技术方面,提供了更好的面积效率,这意味着更低的成本更好的动力输出,也意味着更高的性能。基辛格表示 Intel 18A 凭借着良好的晶体管和强大的功率传输,略微领先于 N2。此外台积电的封装成本更高,而英特尔可以提供更有竞争力的价格优势。目前台积电、英特尔和三星都在加速推进代工业务,在最近的 IEEE 国际电子设备会议(IEDM)上,三家公司都展示了 CFET(Complementary FET)晶体管解决方案。IT之家注:堆叠 CFET 晶体管架构涉及将两种类型的晶体管(nFET 和 pFET)堆叠在一起,目标是取代全

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