英特尔将于今年率先引入下一代 High-NA EUV 光刻机

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IT之家 10 月 2 日消息，英特尔上周表示，它已经开始在价值 185 亿美元的爱尔兰工厂使用 EUV 光刻机进行大规模生产，并称其为“里程碑时刻”。英特尔技术开发总经理安・凯勒赫（Ann Kelleher）表示，英特尔将于今年率先引入下一代高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机，而此前英特尔曾表示 High-NA 技术在 18A 节点上仅用于设备开发和验证，并将在 18A 之后的节点上正式投产。这家美国公司表示，有了 High-NA EUV 光刻机，理论上可以在英特尔实现其“四年五代工艺”的路上发挥关键作用。安・凯勒赫表示，他们目前正按计划实现这一目标，现已完成两个制造工序，而第三个工序“正在迅速到来”，而且最后两个工序都取得了非常好的进展。图源 PixabayASML 首席执行官 Peter Wennink 上个月在接受路透社采访时表示，尽管供应商出现了一些阻碍，但公司仍会按照此前设定的计划，在今年年底之前交付 Hig