台积电官宣向学界开放业界最成功的 16nm FinFET 技术使用

IT之家 2 月 3 日消息，台积电官网宣布推出大学 FinFET 专案，目的在于培育未来半导体芯片设计人才并推动全球学术创新。此专案开放大学院校师生与学术研究人员使用业界最成功的鳍式场效应晶体管（FinFET）技术之制程设计套件 (PDK)，将其芯片设计学习经验提升至先进的 16nm FinFET 技术。IT之家了解到，此专案也提供大学院校领先的芯片研究人员使用 16nm (N16) 及 7nm (N7) 制程之多专案晶圆（Multi-Project Wafer，MPW）服务，将具有影响力的创新研究加速导入实际应用。台积电公司与亚洲、欧洲、及北美的服务伙伴携手合作，提供大学院校以下资源以支持教学用途及测试芯片之研究专案：以台积电公司 N16 制程为主的教学用设计套件，包括教育设计案例、训练资料、以及教学影片，引领学生从传统平面式晶体管结构进入到 FinFET 世代。针对具有影响力的研究专案，包括应用于逻辑、类比与射频的研究设计