【TechWeb】12月14日消息,盛美半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“盛美上海”)作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的领先设备供应商,近日宣布推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxTM等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,拓展了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。盛美上海首席执行官王坚表示:“Ultra PmaxTM PECVD设备的推出,标志着我们在前道半导体应用中进一步扩展到了全新的工艺领域。我们有很多客户是28纳米及以上的逻辑器件供应商。我们预测到了成熟工艺节点产能的增加,因为中国市场的成熟工艺节点产能明显供不应求。这款PECVD设备,使盛美上海在满足全球先进逻辑和存储芯片市场需求的同时,也将更好地服务于全球客户。我们预测,这次推出的PECVD设备,及上个月发布的前道涂胶显影设备Ultr
盛美上海进军PECVD市场 支持逻辑和存储芯片制造
2022-12-14 09:09:37来源: TechWeb
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