华中科技大学团队成功研发国内首款全自主计算光刻 EDA 之 OPC 软件

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IT之家 11 月 26 日消息，据中国光谷、湖北卫视等报道，华中科技大学教授刘世元创立的宇微光学软件有限公司（简称“宇微光学”），已成功研发全国产、自主可控的计算光刻 OPC 软件，填补国内空白。目前正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证，孵化企业的武汉光电工研院也将提供技术转化服务。OPC 软件，即“光学邻近校正软件”，是芯片设计工具 EDA 的一种，没有它，即使用了光刻机，也造不出芯片。据刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在 90nm 甚至 180nm 以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为 OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有 OPC，所有 IC 制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。刘世元是华中科技大学光学与电子信息学院、机械科学与工程学院双聘教授，博士生导师；华中科技大学集成电路测量装备