IT之家 6 月 30 日消息,据 BusinessKorea 报道,三星电子副董事长李在镕于 6 月中旬结束了对欧洲的商务访问,此行他与 ASML 公司就引进该荷兰半导体设备制造商的下一代极紫外(EUV)光刻设备进行了会谈。报道称,李在镕于 6 月 14 日(当地时间)在荷兰 ASML 总部会见了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 和首席技术官 Martin van den Brink,并就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径(High-NA)EUV 光刻设备达成了协议。High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家。IT之家了解到,High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍。今年
三星与 ASML 达成协议:采购下一代 High-NA EUV 光刻机,单价近 26 亿元
2022-06-30 09:40:44来源: IT之家
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