助力客户性能提升20%,功耗降低15%,面积缩小5% 摘要: 流片范围覆盖5G 移动、高性能计算、人工智能、超大规模数据中心等细分市场中40 纳米至 3 纳米设计。 众多领先半导体公司利用新思科技Fusion Compiler紧密的生产部署,进一步实现行业竞争优势。 加利福尼亚州山景城2021年12月3日 /美通社/ -- 新思科技(Synopsys, Inc.,纳斯达克股票代码:SNPS)今日宣布,自 2019 年 Fusion Compiler™ RTL-to-GDSII 解决方案正式发布以来,采用该解决方案的客户已实现超过500次流片。由此,新思科技进一步扩大了其在数字设计领域的领先优势。众多来自高性能计算(HPC)、人工智能(AI)和5G移动等高增长垂直领域的领先半导体公司利用Fusion Compiler,在40纳米至3纳米工艺节点下成功流片。 如何在紧迫的时间内和先进的工
新思科技旗舰产品 Fusion Compiler助力客户实现超 500 次流片,行业领先优势进一步扩大
2021-12-03 08:00:00来源: 美通社
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