SK 海力士：将积极为中国工厂引进 EUV 光刻机，目前进展良好

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IT之家 11 月 24 日消息，众所周知，由于某些原因，ASML 最先进的 EUV 光刻机无法进入中国内地，甚至一些海外厂商换下来的旧设备也很难进入内地。此前路透社援引知情人士的话报道称，韩国企业 SK 海力士无锡工厂的升级改造计划遇阻，仅仅是因为阿斯麦的极紫外光刻机无法获批进入中国大陆，虽然 SK 海力士十分希望通过该设备提高存储芯片的生产效率。据多个外媒报道，SK 海力士 CEO 李锡熙（Seok-hee Lee）对此进行了回应，并就无锡海力士半导体工厂的相关情况进行了沟通。22 日上午，李锡熙社长在首尔三成洞 COEX 举办的‘第 14 届半导体日’活动上会见记者时表示：“我们可以通过合作很好地应对。”他认为，SK 海力士有足够的时间将 EUV 设备进口到中国。李锡熙对于引进受限一事表示：正与美方合作，目前进展良好。EUV 光刻技术已经在韩国本土的 DRAM 产线上应用，中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。当被问及此时是否