上海微电子新型光刻机专利曝光，可提高光刻机的分辨率

图片地址：https://img.ithome.com/newsuploadfiles/2021/9/6bd382b5-e36e-4dd3-acef-91219e9833cb.png

近日上海微电子举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术，集成电路就是由投影曝光装置制成的，将具有不同掩模图案的图形成像至基底上，制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，以及更低成本的需求。然而现有的光刻投影物镜依旧存在诸如数值孔径较小、分辨率低、适用波段窄、数值孔径不可变和非球面透镜加工制造成本高等问题。为此，上海微电子于 2018 年 12 月 30 日申请了一项名为“一种光刻投影物镜及光刻机”的发明专利（申请号: 201811648523.1），申请人为上海微电子装备 (集团) 股份有限公司。▲ 图 1 光刻投影物镜结构示意图图 1 为本发明提出的光刻投影物镜的结构示意图，包