英特尔公布未来制程技术路线图，有望获得业内第一台High-NA EUV光刻机

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【TechWeb】7月27日，在Inel Accelerated大会上，英特尔首席执行官基辛格（Pat Gelsinger）表示，摩尔定律仍在持续生效。 在当天大会上，英特尔公布了未来制程技术路线图，同时介绍了下一代极紫外光刻（EUV）技术的使用计划。根据进展，英特尔有望获得业内第一台High-NA EUV光刻机。而在客户上，基辛格透露已与AWS签约，该公司将成为第一个使用英特尔代工服务（IFS）封装解决方案的客户。同时，高通也将采用Intel 20A制程工艺技术，这一技术预计将在2024年推出。 在发布会上，英特尔公布了未来5年的技术路线图，对芯片的制程工艺进行了新的命名，10纳米Enhanced SuperFin更名为“Intel 7”、Intel 7纳米更名为“Intel 4”、其后是“Intel 3”、下一代将是“Intel 20A&rd