揭秘光刻胶产业，打破美日垄断，十四个中国玩家全公开

图片地址：https://img.ithome.com/newsuploadfiles/2021/5/100b367c-fb13-4de1-bd28-5af77146001f.png

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、 X 射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作，约占 IC 制造材料总成本的 4%，是重要的半导体材料。原标题：《光刻胶研究框架》作者：陈杭光刻胶，半导体基石光刻胶是半导体产业中最重要的材料之一，一般由由感光树脂（聚合剂）、增感剂（光引发剂）、溶剂与助剂构成。光刻工艺约占整个芯片制造成本的 35%，耗时占整个芯片工艺的 40-50%，是半导体制造中最核心的工艺。▲半导体材料：半导体产业的基石一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。▲正胶的光刻过程光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，根据应用领域，光刻胶可分为半导体光刻胶、 平板显示光刻胶和 PCB 光刻胶，其技术壁垒依次降低。相应地，PCB 光刻胶是目前国产