中微公司发布双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star（R）

为逻辑芯片和存储芯片等应用提供高性价比的刻蚀解决方案上海2021年3月16日 /美通社/ -- 中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，上交所股票代码：688012）在SEMICON China 2021期间正式发布了新一代电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo Twin-Star®，用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用。 中微公司双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star® 基于中微公司业已成熟的单台反应器的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀技术和双台反应器的Primo平台，Primo Twin-Star®为电介质前道/后道制程、多晶硅刻蚀、DTI和BSI刻蚀等提供了高性价比的刻蚀解决方案。它的创新设计包括：Primo Twin-Star®使用了双反应台腔体设计和低电容耦合3D线圈设计，创新的反应腔设计可最大程度减弱非中心对称抽