消息称中芯国际正寻求与阿斯麦就EUV光刻设备进行谈判

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【TechWeb】12月19日消息，据国外媒体报道，晶圆代工企业中芯国际（SMIC）正在努力获得关键的极紫外（EUV）光刻设备，以开发7nm以下制程技术。 业内观察人士表示，在新任副董事长蒋尚义的帮助下，中芯国际正寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦（ASML）就EUV光刻设备进行谈判。 据报道，中芯国际计划使用EUV光刻机，生产基于7nm以下制程技术的芯片产品。最近，有媒体报道，该公司已经从20nm工艺过渡到3nm工艺，唯一缺的就是EUV光刻机。有了EUV光刻机，该公司就可以量产3nm芯片。 阿斯麦的总部位于荷兰的费尔德霍芬，生产基地和研发设施则位于康涅狄格州、加州、中国台湾和荷兰，科技发展中心及训练设施位于日本、韩国、荷兰、中国台湾和美国。 该公司服务的客户为全球主要的半导体制造商，打造在电力电子、通信和信息技术产品中广泛应用的芯片。 目前，只有阿斯麦能造极紫外光刻机。据悉，三星电子、英特尔和台积电等都采购了该公司的极紫外光刻设